우선권 주장과 PCT 국내단계 진입을 통한 미국 특허출원 방법

 

미국에서 특허출원을 하는 방법은 크게 3가지로 나눌 수 있습니다.

 

첫 번째는 미국에서 최초로 특허출원하는 방법이며, 두 번째는 국내에서 특허 출원 후 우선권 주장을 통해 미국 특허 출원하는 방법입니다.

 

마지막으로 PCT 국제특허 출원 후 국내단계 진입하여 미국 특허 출원을 하는 방법입니다.

 

국내 기업이나 개인들은 일반적으로 특별한 사유가 없으면 PCT 국제특허 출원을 통해 국내단계진입 방법이나 국내 특허 출원 후 우선권 주장을 통한 미국 특허 출원 방법을 사용합니다.

 

이번에는 우선권 주장 방법과 PCT 국내단계 진입으로 미국에 특허출원을 하는 두 가지 방법에 대해 자세히 알아보도록 하겠습니다.

 

 

 

[국내 특허 출원 후, 우선권 주장을 통해 미국 특허 출원 ]

 

한국에서 특허 출원을 한 경우, 해당 발명품 또는 기술에 대한 권리를 보호받으려면 다른 국가에서도 특허를 출원해야 합니다. 

 

이때, 국내 출원일을 기준으로 다른 국가에서 출원할 경우, 국내 출원일을 우선적으로 인정받을 수 있는 "우선권"을 주장할 수 있습니다.

 

미국에서도 국내 출원일을 우선권으로 주장하여 특허 출원이 가능합니다. 

 

국내 출원일 기준으로 12개월 이내에 미국에서 특허 출원을 하면, 국내 출원일을 기준으로 특허 심사에서 우선순위를 받을 수 있습니다.

 

우선권을 주장하여 미국에서 특허 출원을 하면, 국내 출원과 마찬가지로 특허 조사, 출원서 작성, 출원서 제출, 검토 및 승인, 특허 등록 등의 과정을 거쳐야 합니다.

 

우선권을 주장하면, 미국에서도 국내에서 보유하고 있는 특허와 같은 발명에 대해 우선권을 주장할 수 있으며, 또한 국내와 마찬가지로 해당 발명에 대한 침해를 막을 수 있습니다. 

 

따라서 국내 특허 출원 후 미국에서 우선권을 주장하여 특허 출원하는 것은 전략적으로 중요한 선택이 될 수 있습니다.

 

 

파리조약에 의한 해외 지식재산권(특허,상표,디자인) 출원

 

 

 

 

 

 

[PCT 국제특허 출원 후 , 미국으로 국내단계 진입 ]

 

PCT 국제특허 출원을 통해 미국 내에서도 특허 보호를 받기 위해서는 국내 단계 진입이 필요합니다. 

 

이를 위해서는 PCT 출원일로부터 30개월 이내에 미국 국내 단계 출원을 진행해야 합니다.

 

미국 국내 단계 출원을 위해서는 PCT 출원서를 미국어로 번역하고 미국 특허청에 제출해야 합니다. 

 

만약 추가 정보나 수정이 필요한 부분이 있다면, 국내 단계 출원서에 반영해야 합니다.

 

미국 국내 단계 출원서는 PCT 출원서를 기반으로 특허 검색과 심사가 이루어지며, 미국 특허청에서는 출원서를 검토하여 특허 여부를 결정합니다. 

 

특허가 인정되면 해당 발명에 대한 미국 내에서의 권리를 보호할 수 있습니다.

 

미국 내에서의 국내 단계 출원 후에는 미국 특허법에 따라 특허 법적 지정 및 기술적 문제 해결 등의 절차가 진행되며, 이후 특허가 등록되면 해당 발명에 대한 미국 내에서의 권리를 보호할 수 있습니다.

 

 

PCT 국제특허 출원 전략

 

PCT 국제특허 출원 후 놓치지 말아야 할 PCT 국내단계 진입

 

 

 

 

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미국특허출원단계

 

미국에서 특허 출원은 혁신과 발명품을 보호하기 위한 중요한 절차입니다. 

 

이를 위해 미국특허청(USPTO)에서 특허 출원서를 제출하며, 출원서 작성, 제출, 검토 및 승인, 특허 등록 등 다양한 단계를 거쳐야 합니다.

 

특허 출원서는 정확하고 상세한 내용을 포함하여 미국 특허법에 맞춰 작성되어야 합니다. 

 

출원서가 검토를 통과하면 등록이 이루어지며, 등록된 특허는 보통 20년간 유효합니다. 

 

이 기간 내에는 타인이 해당 발명품을 침해할 경우 소송 등의 절차를 통해 보호를 받을 수 있습니다.

 

미국 특허 출원은 비용과 복잡성이 큰 과정이지만, 발명품 또는 기술에 대한 독점적인 권리를 얻을 수 있어 경쟁 우위를 확보하는 데 중요한 역할을 합니다. 

 

또한, 출원서 검토 과정에서는 기존에 출원된 특허나 출원 가능성이 있는 특허를 파악할 수 있어, 발명품 또는 기술 개발에 있어서도 유용한 정보를 얻을 수 있습니다.

 

 

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